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RTP-SA-12RTP-SA-12半自动快速退火炉是在保护气氛下的半自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片Wafer或样品，工艺时间短，控温精度高，适用4-12英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系统和其他RTP系统，其独特的腔体设计、先进的温度控制技术和独有的RL900软件控制系统，确保了极好的热均匀性。【RTP快速退火炉】
产品特点
（PRODUCTFEATURES）
红外卤素灯管加热，冷却采用风冷:
灯管功率PID控温，可精准控制温度升温，保证良好的重现性与温度均匀性:
采用平行气路进气方式，气体的进入口设置在Wafer表面，避免退火过程中冷点产生，保证产品良好的温度均匀性.
大气与真空处理方式均可选择，进气前气体净化处理
标配两组工艺气体，最多可扩展至6组工艺气体，
可测单品片样品的最大尺寸为12英寸(300x300mm)
采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，全方位保障仪器使用安全。
行业应用【RTP快速退火炉】
（INDUSTRYAPPLICATIONS）
氧化物、氮化物生长
硅化物合金退火
砷化家工艺
欧姆接触快速合金
氧化回流
其他快速热处理工艺
基本配置
BASICCONFIGURATION
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