FULLY AUTOMATIC DOUBLE CHAMBER RAPID ANNEALING FURNACE
全自动双腔快速退火炉
RTP-DTS-64【RTP快速退火炉】
RTP-ATS-64 是在保护气氛下的全自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片 Wafer 或样品，工艺时间短，控温精度高，适用 4 寸 4 片（可兼容 4 寸 9 片）或 6 寸4 片快速热退火制程。相对于传统扩散炉退火系统和其他 RTP 系统，其独特的腔体设计、先进的温度控制技术和独有的 RL900软件控制系统，确保了极好的热均匀性。
产品特点 PRODUCT FEATURES
红外卤素灯管加热，冷却采用风冷；灯管功率 PID 控温，可精准控制温度升温，保证良好的重现性与
温度均匀性；
采用平行气路进气方式，气体的进入口设置在 Wafer 表面，避免退火过程中冷点产生，保证产品良好的温度均匀性；
大气与真空处理方式均可选择，进气前气体净化处理；
标配两组工艺气体，最多可扩展至 6 组工艺气体；
可处理单晶片样品的最大尺寸为 12 英寸（300×300mm），兼容 4 寸 4 片（可兼容 4 寸 9 片）或 6 寸 4 片；
采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，全方位保障仪器使用安全。【RTP快速退火炉】
【RTP快速退火炉】行业应用
INDUSTRY APPLICATIONS
1.氧化物、氮化物生长
2.硅化物合金退火
3.砷化镓工艺
4.欧姆接触快速合金
5.氧化回流
6.其他快速热处理工艺
广东半岛BOB·中国官方网站专注于高精度温测、温控设备的生产和研发定做，为半导体行业提供科学的国产解决方法，更多有关快速退火炉 TC Wafer 晶圆测温系统资讯请关注半岛BOB·中国官方网站官网。
广东半岛BOB·中国官方网站专注于高精度温测、温控设备的生产和研发定做，为半导体行业提供科学的国产解决方法，更多有关快速退火炉 TC Wafer 晶圆测温系统资讯请关注半岛BOB·中国官方网站官网。